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ZnSe基量子阱的低压MOCVD生长及性能表征
用低压--金属有机化学气相沉积(LP-MOCVD)方法生长了ZnCdSe-ZnSe和ZnTESe-ZnSe多量子阱。在生长室压力38torr,衬底面积19×20mm^2的GaAs衬底上,生长100周期的ZnCdSe-ZnSeMQWs,经扫描电镜测量,生长不均匀性仅......
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MOCVD
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