采用射频磁拉溅射技术在室温溅射（Ｐｂ，Ｌａ）ＴｉＯ３（ＰＬＴ）薄膜，在６００℃下退火２ｈ，通过对ＸＲＤ谱图和ＡＦＭ照片分析，发现薄膜结晶良好，已形成均匀、连续、致密、表面平滑的完全钙......