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难熔金属钼的刻蚀
本文叙述了3μm 宽的钼栅图形的反应离子刻蚀(RIE)工艺并将其用于CMOS IC 的制备中....
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难熔金属
钼
刻蚀
反应离子刻蚀
Refractory Metal
RIE
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