NiTi薄膜相关论文
研究了带基板磁控溅射富钛NiTi薄膜经不同温度晶化后的的微观组织和结构、相变温度及薄膜的应力状态.结果发现:带基板晶态薄膜中存......
本文利用聚焦离子束制备了厚度约为100 nm的NiTi薄膜,并用透射电镜中的拉伸台原位研究了NiTi微带在拉伸条件下的马氏体行为。......
研究了带基板磁控溅射富钛NiTi薄膜经不同温度晶化后的的微观组织和结构、相变温度及薄膜的应力状态.结果发现:带基板晶态薄膜中存......
介绍了一种用硅微加工技术制作的NiTi/Si 薄膜结构的双向微驱动器。它利用NiTi 形状记忆合金薄膜(SMA) 大的相变回复应力和Si 衬底膜的反偏置力产生有......
本文利用模板,采用磁控溅射法在PZT基体上溅射沉积局限面积的NiTi SMA薄膜,运用SEM、显微硬度测试与阻抗分析等研究了所制备材料的......
该工作利用磁控溅射方法对可从衬底上分离的NiTi形状记忆合金薄膜的制备、微结构、结构和相变特性进行了深入系统的研究.结果表明......
采用直流磁控溅射方法,制备出沉积在不同温度衬底上的NiTi薄膜.应用X射线衍射、小角X射线散射和差热扫描量热法研究了两种衬底温度......
介绍了当前国内外NiTi薄膜在以微机电系统(MEMS)为主的诸多领域中的应用研究情况, 分析了存在的问题, 并展望了今后的发展前景.......
采用直流磁控溅射法制备了NiTi形状记忆合金薄膜,采用一步法对NiTi薄膜进行晶化热处理以使其获得形状记忆效应,研究了成分和晶化热......
用磁控溅射法将NiTi薄膜沉积在纯Cu箔片上,在800℃分别固溶30 min,45 min,60min和120 min;采用X射线傅氏线形分析法计算各固溶时间......
Three kinds of NiTi films with different Ni contents were prepared by DC magnetron sputtering.The crystallization kineti......
NiNi形状记忆合金薄膜是从块体状形状记忆合金中发展起来的一种新型功能薄膜材料 ,它具有不完全类同于块体状形状记忆合金的相变行......
采用直流磁控溅射方法, 制备出沉积在不同温度衬底上的NiTi薄膜. 应用X射线衍射、小角X射线散射和差热扫描量热法研究了两种衬底温......
NiTi形状记忆合金薄膜具有形状记忆效应,极有希望用于制造高技术领域微电子机械系统中的微型激发器.NiTi形状记忆合金薄膜在制备和......
研究了适用于微器件的溅射态N iTi形状记忆合金薄膜。讨论了溅射工艺及织构对薄膜结构和相变特征的影响。利用薄膜热相变特性制成......
利用直流磁控溅射法溅射沉积了NiTi形状记忆合金薄膜 ,对NiTi形状记忆合金薄膜进行晶化热处理以使其获得形状记忆效应 ,研究了 5 5......
MEMS技术是二十一世纪迅猛发展的新兴技术,微驱动器是它的核心技术之一。记忆合金薄膜的性能在许多方面优于体材料,因而其在MEMS中......