研究了直流ＰＣＶＤ ＴｉＮ膜的断口结构和机械性能。用扫描电镜观察了４００℃～７００℃ 下沉积的 ＴｉＮ膜．总结了在本条件下所得 ＰＣＶＤ－ＴｉＮ膜的温度－结构关系，与 ＰＶＤ 法相比，其主要......