采用化学气相沉积（CVD）方法在SiO2/Si衬底生长了ZnO纳米线阵列,纳米线长约为15 μm,直径为100-500 nm.通过改变溅射沉积时间（0-150 s）,......

研究了在三效催化反应过程中热老化对Pd/Al2O3选择性催化NH3反应性能的影响。在稀/富循环流中进行稳态实验,采用X射线衍射(XRD)、B......

采用化学气相沉积(CVD)方法在SiO_2/Si衬底生长了ZnO纳米线阵列,纳米线长约为15μm,直径为100~500 nm。通过改变溅射沉积时间(0~15......