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抛光及清洗工艺对硅片表面形貌的影响
近年来,集成电路的设计线宽正向纳米尺度发展,对半导体硅材料的表面性能提出了更加苛刻的要求。当器件的特征尺寸逐渐减小后,器件的成......
学位
硅片
抛光
清洗工艺
表面形貌
Peak-valley值
非接触式光学轮廓仪
预氧化
各向异性腐蚀
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