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RIE工艺刻蚀相关论文

一种测量外延层厚度及掺杂浓度的改进方法

在双台面SiGe HBT加工工艺过程中,采用RIE工艺刻蚀发射极台面时,为了避免等离子轰击对外基区表面造成损伤,同时为了防止过刻到基区......

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EFL 线性拟合 RIE工艺刻蚀四探针外延层厚度掺杂浓度测量 SiGe-HBT加工工艺双极性晶体管 EFL Linearly forming RIE

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