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在3月中旬上海的SEMICONChina展会期间,单晶湿式清洗技术的市场领先者和技术创新者一SEZ(瑟思)集团公司接受了本刊的采访.......

奥地利VILLACH（维拉赫）和瑞士苏黎世讯：业界领先服务于半导体行业的单晶圆湿式处理解决方案创新者SEZ（瑟思）集团（日前宣布了公司面向前段......

半导体业界中单晶圆显式清洗技术市场领先者和首要的技术创新者SEZ（瑟思）集团（瑞士股票交易市场SWX代码：SEZN）于宣布，诚邀Glenn Gale博士......

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美国Aviza科技公司和澳大利亚SEZ集团日前就在利用ALD（Atomic Layer Deposition，原子层沉积）技术形成高介电常数（high-k）膜时，对附着在晶......

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近日，半导体设备市场的领先供应商及单晶片湿处理技术领域的首要创新者SEZ集团（SWX股市代码：SEZN）公司宣布，一家世界领先存储器制造商已......

编者按:随着器件尺寸的不断缩小以及诸如铜和低介电常数绝缘体等新材料的应用,半导体芯片的功能越来越强,但同时也使得产业面临着......

【正】 半导体业界领先的单晶清洗技术创新技术的先驱者 SEZ 集团于近日发布了公司在湿表面预旋转处理技术上的重大突破,在目前的......

SEZ（瑟思）集团宣布集团己开发出新型化学制程．将极大地改善前段制程（FEOL）中的光阻去除制程。SEZ的专有技术Enhanced Sulfuric Acid（ESA）......