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X光深层光刻工艺相关论文
LIGA技术X光深层光刻工艺研究
通过在北京高能所3W1束线上进行的X光深层光刻工艺研究,获得了侧壁光滑、陡直、厚度达100μm,深宽楷比达20的光刻胶和金属微结构,表明......
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在3W1束线上进行X光深层光刻工艺研究
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