The stability of a novel low-pH alkaline slurry(marked as slurry A, pH D 8.5) for copper chemical mechanical planarizati......

The surface roughness seriously affects the performance of devices after barrier CMP. Due to the high surface roughness ......

液体磁性磨具光整加工技术是用磨具本身的流变特性对工件表面进行光整加工的新技术。在实际加工试验研究的基础上，分析了磁场强度、......

文章通过对直接空冷机组的水质特点进行分析,说明了凝结水精处理的必要性,并且详细论述了凝结水精处理系统的特点.......

以已二醇／水混合溶液为反应介质并结合正丁醇共沸蒸馏处理前驱体，通过化学共沉淀法制备掺钛的Ce1-xTixO2（x=0，0．1，0．2，0．3）粉体，运用x射线衍射......

采用由2．5％（体积分数，下同）硅溶胶磨料、1．5％H2O2、0．5％FA／O型螯合剂和1．0％表面活性剂组成的抛光液对铝栅表面进行化学机械平坦化处理。研究了......

本文进行了氮化铝基片的集群磁流变抛光加工研究,分析了主要工艺参数的影响和加工表面形貌特征。实验结果表明：集群磁流变抛光加工......

针对抛光作业过程中的恒力问题,研究了工业机器人恒力抛光作业的主动柔顺控制系统。通过六维力传感器对采集到的力信号进行了滤波......

依据拉伸润滑压力模的原理,设计了抛光剂可以循环使用、对异型材特别有效的载线抛光装置,使用该装置,提高了有色金属线材特别是钛......