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中照条件相关论文
区熔工艺和中照条件对NTD FZ(H)—Si单晶退火行为的影响
采用后热区熔工艺的NTD FZ(H)-Si单晶,其退火曲线与常规区熔(氢)工艺控制的NTD FZ(H)-Si单晶退火曲线一样,有氢施主,而采用后冷区......
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区熔工艺
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