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亚65nm相关论文
亚65nm及以下节点的光刻技术
由于193 nm浸入式光刻技术的迅速发展,它被业界广泛认为是65 nm和45 nm节点首选光刻技术。配合双重曝光技术,193 nm浸入式光刻技术......
期刊
亚65nm
浸入式光刻
极紫外线
电子束直写
分辨率增强技术
sub-65 nm immersion lithography EUV E-beam dir
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