光刻机掩模台相关论文
为了解决光刻机掩模台控制系统中模型参数的不确定性,提出一种带有自适应前馈的运动控制算法.该算法主要特点是以控制器的实际输出......
光刻机在集成电路的大规模生产中占有重要地位.掩模台的高速度高精度控制直接决定了芯片制造的线宽及生产效率.本文介绍了运动控制......
针对光刻机掩模台宏动永磁直线同步电机(PMLSM)提出一种鲁棒自适应神经网络轨迹跟踪补偿控制策略。该策略的主要特点是采用径向基......
光刻机在集成电路的大规模生产中占有重要地位。掩模台的高速度高精度控制直接决定了芯片制造的线宽及生产效率。本文介绍了运动控......
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光刻机掩模台的宏动台由4个永磁直线电机构成,每侧2个,对称分布在宏动台的两侧。宏动台做大行程、宽范围、高速直线运动。掩模台宏......
