光刻蚀技术相关论文
本文选用了聚甲基丙烯酸甲脂(Polymethyl methacrylate} PMMA)作为基底材料,应用激光刻蚀技术加工了一种可以适用于芯片质谱联用PM......
激光刻蚀技术用于卫星天线的制造,用于刻蚀由不同材料体系组成天线表面的金属薄膜,由于金属、有机材料各层对激光的热和光物理特性......
通过无电化学湿法腐蚀的方法在晶硅衬底上成功制备了硅纳米线阵列形成黑硅.针对存在的纳米线与电极之间的接触不够致密,并且浆料不......
大面积CIGS电池组件中子电池互连件图型、激光刻划参数等对组件性能影响显著.本文采用三步蒸发工艺在覆有钼膜的玻璃衬底上制备出......
非传统微纳制备技术主要是指软刻蚀及其衍生的技术,与目前在微制造领域广泛使用的光刻蚀技术相比,软刻蚀的优势主要集中在过程简单,成......
随着纳米技术的发展,单晶硅纳米线(silicon nanowires,SiNWs)作为一维纳米材料,其优异的光电性能,使其在硅基纳米光电子器件及传感......
当前作为治疗心血管疾病而植入的医疗器械均会不同程度的导致血管内膜的损伤,从而诱发血管再狭窄的可能性。因此研究植入性材料表......
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光刻蚀技术[1]是微电子加工技术中最成功的一种, 但由于受到光学衍射等的限制, 100 nm是光刻蚀的极限, 为此人们探索了许多先进的......
电化学生物传感器由识别元件、电极和信号放大装置构成。其中,电极作为换能装置,对电化学传感器的性能具有重要影响。然而,传统的......