分子玻璃相关论文
光刻胶作为芯片的核心材料，对微电子技术的快速发展起着至关重要的作用，成膜树脂作为光刻胶的骨架组分，直接影响光刻胶的性能。本研究......
从化学元素、分子结构、光化学性能等方面，系统综述了7 nm分辨率极紫外光刻胶研究和应用新进展，展望了未来发展的方向、机遇与挑战。......
分子玻璃光致抗蚀剂材料因其具有单分散性、无定形性、可获得高分辨率图形及低线边缘粗糙度等优点，已受到了较大的关注。本文设计并......
飞秒激光双光子微纳加工是一种新的纳米加工技术，具有高精度、良好的空间分辨率和真三维加工能力的特点。近年来发展起来的小分子光......
在过去的十年中，研究了各种分子玻璃体抗蚀剂，以电子束抗蚀剂研究的较多，也包括极紫外、248-nm和i-线抗蚀剂。包括了负型和正型抗蚀剂......
分子玻璃体是在室温下为无定形态的低分子量材料.通过一元羧酸和二乙烯基醚的反应,得到了几种新颖的酯缩醛结构小分子化合物。这些......
近年来,随着微电子半导体行业的迅猛发展,对介电常数低于2.5 的材料的开发在学术界和工业界引起广泛的关注.目前主要使用两种类型......
随着集成电路制程向着3 nm乃至1 nm推进,光刻胶作为集成电路制造中最为繁杂的光刻工艺所需的重要耗材,愈发显示其重要性及挑战性。......
光刻胶是半导体领域中不可或缺的关键材料。光刻胶行业常年被日本和美国等国家所垄断,随着国际竞争的日益激烈,光刻胶国产化迫在眉......
利用压强升高法建立了极紫外(Extreme ultraviolet,EUV)光刻胶产气检测系统,对以分子玻璃(Molecular glass)螺芴(9,9'-Spirobifluo......
近年来，随着集成电路向亚微米、纳米方向的快速发展，光刻技术的加工分辨率已经进入纳米量级。纳米器件的发展趋势不仅要求特征尺寸越......
电光材料在现代信息处理传播技术占据着至关重要的地位。传统的无机晶体类材料受困于调制带宽窄，响应速度慢，电光系数低等问题难以满......
有机／聚合物光折变材料的品质因数高，结构设计容易，样品制备简单，综合性能优良，是一类极具发展潜力的非线性光学材料。本文首先对有机／聚......
有机/聚合物光折变材料是一类在信息传输、存储及信息处理等方面有着很大发展潜力的非线性光学材料,文中介绍了有机光折变材料的几......
通过在枝化苯胺-吡咯啉发色团接入具有π-π作用的蒽官能团,设计并合成了一种可用于二阶非线性光学材料的新型树枝状玻璃分子发色......
分子玻璃材料和多光子光刻技术分别是近年来光刻胶和光刻技术领域的研究热点．本文对分子玻璃正性光刻胶在多光子光刻中的应用进行了......
极紫外(EUV)光刻技术是能够实现22nm节点及以下的下一代光刻技术中最具潜力的光刻技术之一,EUV光刻技术中所使用的光刻胶的研究具......
第一部分 卟啉及BODIPY衍生物设计合成及光物理性质研究大π共轭有机化合物因其优良光电性质近年来引起广泛关注．卟啉和BODIPY是两......
随着信息时代的到来，光纤通信、移动通信、卫星通信等技术在全球范围内蓬勃发展，二阶非线性光学材料由于在宽带通讯、信息处理、雷达......
在众多的电致发光材料中,一类具有无定形态性质的分子玻璃材料受到人们越来越多的关注。分子玻璃可以使用多种方法制备均匀、平整......
