分步重复投影相关论文
介绍 0 .35μm分步重复投影光刻物镜的设计要点 ,包括数值孔径、结构型式的确定、材料的选择。介绍了光刻物镜设计的难点、创新点......
掩模库系统可提高光刻机的稳定性和实用性，该系统包括精密的气动部分、机械构件和８０９８单片机为核心的电子／电气自动控制系统。......
套刻精度是衡量分步重复投影光刻机的一项重要指标。套刻精度不仅取决于对准系统的对准精度，还受环境，工艺等因素的出提高光刻机整机......
