纳米半导体硅（ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ）薄膜是利用等离子体增强化学气相淀积（ＰＥＣＶＤ）方法制备的，制备条件可以很好地进行调节控制．纳米硅薄膜由两种组元组成：纳米尺度晶......