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反应RF磁控溅射法相关论文
反应射频磁控溅射制备高k氧化锆薄膜及介电性能的研究
在氧气和氩气的混合气体中,在O2/Ar混和气总流量固定的条件下,通过调节O2/Ar流量比,采用反应RF磁控溅射法制备了具有高介电常数的......
期刊
反应RF磁控溅射法
氧化锆薄膜
表面粗糙度
高介电常数
reactive RF magnetron sputtering
zirconium oxide fi
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