在不同的射频负偏压作用下,利用微波电子回旋共振(ECR)等离子体源化学气相沉积技术在单晶硅表面进行制备类金刚石薄膜研究.利用傅......

用ＡＲＥ（Ａｃｔｉｖｅ Ｒｅａｃｔｉｏｎ Ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）装置，在Ｎ２／Ａｒ混合等离子体弧光放电气氛下，通过电子束蒸镀纯硼，同时伴以一定能量的正离子轰击生长的膜表面的方法，在单晶硅（１００）基片上成功......