平坦化效率相关硕士博士期刊学术论文 - 搜论网

平坦化效率相关论文

碱性抛光液中纳米SiO2磨料在Cu CMP中的作用

GLSI多层铜互连线的平坦化中,抛光液中的SiO2磨料对铜的平坦化效率具有重要的作用。研究了碱性纳米SiO2质量分数对300 mm铜去除速......

期刊

化学机械抛光(CMP) 铜布线磨料浓度去除速率平坦化效率

铜化学机械平坦化过抛过程中平坦化效率的计算方法

为了确保整个晶圆片上残余铜的去除,精抛后的过抛步骤至关重要,然而在铜过抛过程中会产生铜碟形坑和介质蚀坑等问题,去除残余铜的......

期刊

平坦化效率碱性铜精抛液过抛过氧化氢碟形坑钝化层

GLSI多层铜布线碱性粗抛液平坦化效率的研究

随着集成电路特征尺寸不断降低、金属互连线宽度越来越窄、布线层数迅速增加,RC延迟和功率损耗逐渐成为制约半导体器件集成度的重......

学位

铜互连 CMP 碱性抛光液去除速率一致性高低差平坦化效率

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