底部抗反射涂层相关论文
本研究工作主要研制了一系列以新型含多羟基型分子玻璃化合物和两端及多端乙烯基醚类化合物为主要原料制备而成的底部抗反射涂......
底部抗反射涂层(BARCs)和光刻胶已被广泛地用于半导体制造中的光刻加工工艺中.BARCs在光刻中的主要好处就是聚焦/曝光宽容度的改善......
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随着微电子工业的蓬勃发展,光刻技术向着更高分辨率的方向迈进,运用底部抗反射涂层有效消除光刻技术中的驻波效应、凹缺效应,提高......