掩膜版误差因子相关硕士博士期刊学术论文 - 搜论网

掩膜版误差因子相关论文

KrF化学增幅光刻胶在90nm逻辑工艺上的性能评价与优化的工艺条件

集成电路一直遵循着摩尔定律向前发展,特征尺寸也不断地缩小。目前,对300mm的芯片生产厂商而言,主流技术为90到45nm。在整个集成电......

学位

光酸扩散线端缩短工艺窗口掩膜版误差因子光学邻近效应

看过本文同时还关注