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断续逐层生长相关论文
GeSi多层膜的优化研究及其原型器件结构设计
基于带隙可调的“SiGe材料能带工程”受到了越来越多的关注,究其原因,一是硅资源丰富,成本低廉,二是可以与业已成熟的硅平面技术相兼容......
学位
缓冲层
断续逐层生长
原型器件结构
多层膜
量子阱
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