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平面研磨抛光作为获取光学元件、蓝宝石衬底及单晶硅衬底等高精度表面的重要手段,在电子通信、计算机和激光等领域有着广泛的应用......
平面研磨过程中磨粒与工件的相对运动轨迹分布对工件表面质量有重要影响。针对有理数转速比下的研磨加工过程中磨粒轨迹重复的问题......
针对常规平面研磨过程中磨粒运动轨迹重复性较高、研磨抛光均匀性不足的问题,引入了无理转速比概念,以进一步提升研磨加工均匀性。......
