步进扫描光刻机相关论文
在28 nm及以下节点光刻机中,平顶高斯照明光场是减小脉冲量化误差对曝光剂量影响的关键技术之一。为降低平顶高斯照明光场产生组件......
步进扫描光刻机是半导体制造的核心装备,而工件台系统是光刻机整机系统的核心系统。微动台是工件台系统的关键部件,分析微动台及整......
为实现100nm步进扫描光刻机的运动控制精度,需要硅片台掩膜台系统的远程采样控制器的采样时钟满足微秒级同步要求。为此采用由同步......
工件台(包括硅片台和掩模台)技术作为光刻机三大核心技术之一，在光刻对准和曝光过程中起着至关重要的作用。在步进扫描式光刻机中，硅......
由于半导体制造工艺的快速推进,工艺节点已进入90nm的时代承担90nm工序的是波长193nm的ArF曝光设备.2003年的ArF曝光设备供货数量......
为提高步进扫描式光刻机的生产效率,提出了一种具有时间最优和冲击最小的5阶S曲线。在最大扫描速度恒定的前提下,以最小时间和冲击......
