氧化铪薄膜相关论文
利用电子束蒸发和自动晶控技术制备了氧化铪薄膜,并对薄膜进行了退火处理。通过光致发光(PL)光谱、光致发光激发谱(PLE)和X射线衍......
采用射频磁控溅射法在不同氧氩比的条件下制备了氧化铪绝缘薄膜,分别采用X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)对氧化铪薄膜的结构和表面......
在微电子领域中,集成电路的发展是一直遵循摩尔定律的发展而发展的。随着MOSFET特征尺寸的不断缩小,其等效氧化物层的厚度减小到纳......
随着半导体工业的飞速发展,传统SiO2材料已越来越不能适应MOS器件对栅极材料的要求,而HfO2基薄膜凭借其高的介电常数(high-k)、较......
随着人类社会进入21世纪,社会的发展和科学技术的进步使人类对信息的需求越来越多,用光子作为信息的载体,采用光通讯将是下一代通......
随着高速信息处理技术对存储器件密度和速度的苛求,当前主流的Flash(基于电荷存储机理)存储器特征尺寸正在挑战物理极限,而同样具有......
采用磁控溅射法在硫化锌衬底上制备了氧化铪薄膜,并对氧化铪薄膜的结构和性能进行了分析和测试.结果表明,制备的氧化铪薄膜结构为......
采用射频磁控溅射法在ITO基底上制备了Hf O2和Hf O2:Au薄膜,并对Cu/Hf O2/ITO和Cu/Hf O2:Au/ITO三明治结构进行了电阻转变性能测试......
最近,在氧化铪薄膜材料中掺杂适量元素发现了铁电性,因为氧化铪薄膜材料与传统的钙钛矿结构铁电材料相比具有可微缩性化、较大的矫......
薄膜晶体管因为其简单的结构、优异的性能,被广泛的应用于平板显示技术之中。氧化物半导体因为杰出的物理性能被视为平板显示中最......
用双离子束溅射沉积氧化铪光学薄膜,并对此工艺下制备的氧化铪薄膜进行了光学性质、残余应力、结构特性以及激光损伤特性的研究。实......
在基底清洗、薄膜沉积和薄膜后处理三个阶段均采用离子束技术,制备了氧化铪薄膜,并对薄膜的光学性能、表面特性和激光损伤阈值特性......
氧化铪是高激光损伤阈值薄膜领域内一种重要的高折射率材料,其禁带宽度和Urbach带尾宽度直接影响到薄膜的吸收和激光损伤阈值。针......
利用电子束蒸发和光电极值监控技术制备了氧化铪薄膜,并分别用两种后处理方法(空气中退火和氧等离子体轰击)对样品进行了处理.然后......