深度除水相关论文
耐HC1和水协同腐蚀、低二次杂质释出是吸附材料用于HC1电子气体深度除水的先决条件.在考察了一系列工业化硅铝酸盐分子筛的耐蚀性......
HCl电子气体是集成电路制程中刻蚀和清洗的关键气体,其水分、金属离子等有害杂质需严格控制,ppbv(10-9)级深度除水对保障HCl电子气......
