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关于抛光硅片清洗和IPA干燥技术的研究
介绍了采用OPSC溶浸式湿法化学清洗工艺,同时使用串联的SC-1槽和兆声功能来去除颗粒,使用含O的去离子水形成均匀硅氧化膜,最后用IP......
会议
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