磁光膜相关论文
对用于磁光法拉第旋转器件的掺Bi的YIG薄膜进行了介绍与分析,这种新型磁光薄膜(YbTbBi)3(FeGa)5O12是采用液相外延技术在CaMgZr:GGG晶片的(111)方向生长的,通过合理的配方及工......
通过对(BiTm)3(FeGa)5O12膜施工加低频交变磁场,匀速率增加的直流磁场和同时对该膜施加这两种磁场(复合外场),用照相划线读数方法和......
本文给出了一种快速周期退火这一新技术。用它对 RF 磁控溅射法制备的石榴石磁光膜进行热处理光学均匀性变好,晶粒尺寸减小(30nm),......
报道了快速循环晶化Bi和Ba代替DyIG磁光膜的实验结果,发现在累加退火时间小于3分钟时(温度650~680℃)膜内部存在非晶区域和沿厚度晶化不均匀现象。导出......
磁光介质的性质与其微观结构有密切的关系,H.J.leamy等曾研究过RE-TM非晶态材料的柱状微结构[1]。但未涉及Tb Fe Co膜,且所采用的......