磁光膜相关论文
对用于磁光法拉第旋转器件的掺Ｂｉ的ＹＩＧ薄膜进行了介绍与分析，这种新型磁光薄膜（ＹｂＴｂＢｉ）３（ＦｅＧａ）５Ｏ１２是采用液相外延技术在ＣａＭｇＺｒ：ＧＧＧ晶片的（１１１）方向生长的，通过合理的配方及工......
通过对(BiTm)3(FeGa)5O12膜施工加低频交变磁场，匀速率增加的直流磁场和同时对该膜施加这两种磁场(复合外场)，用照相划线读数方法和......
本文给出了一种快速周期退火这一新技术。用它对 RF 磁控溅射法制备的石榴石磁光膜进行热处理光学均匀性变好,晶粒尺寸减小(30nm),......
报道了快速循环晶化Ｂｉ和Ｂａ代替ＤｙＩＧ磁光膜的实验结果，发现在累加退火时间小于３分钟时（温度６５０～６８０℃）膜内部存在非晶区域和沿厚度晶化不均匀现象。导出......
磁光介质的性质与其微观结构有密切的关系,H.J.leamy等曾研究过RE-TM非晶态材料的柱状微结构[1]。但未涉及Tb Fe Co膜,且所采用的......
