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用等离子氧化法制作的含钴氧化铁薄膜介质的记录特性
首先用CoFe合金靶在氧气气氛中以反应性溅射法形成CoO-F#3O4薄膜,然后用两种方法氧化,使之转变为Co-γ-Fe2O3,制成薄膜磁盘。所用氧化法......
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Co-γ-Fe2O3磁盘
高矫顽力
等离子氧化
记录特性
磁性复制
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