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平面介质靶周围离子体鞘的特征
该文研究了在等离子体浸没离子注入(PIII)中介质材料(高聚物、半导体等)为被注入对象时,其周围离子体鞘的扩展厚度和电势特征。在常规应用中......
期刊
离子体鞘
等离子体浸没
离子注入
PIII技术
dielectricion-matrix sheathplasma immersion ion implanta
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