VIISta 900XP是一款为满足使用亚兆电子伏能量实现N或P型反阱工艺的需求而设计的离子注入设备。设备提高了注入能量的使用上限，并优......

半导体材料领域领导厂商ATMI日前通过在年度SemiconWest（美国西部半导体设备展览会）贸易展开幕活动上发布其创新AutoClean（tm）技术而为......

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Litmas^TM RPS 1501和3001远程等离子源平台；干法光刻系统；立式炉管；刻蚀系统；离子注入设备......

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知名离子注入设备厂商——美国Varian Semiconductor Equipment Associates（VSEA）日前从日本尔必达获得了10台以上单晶圆式（Single Wa......

测定离子注入后掺杂总数的方法可分为二大类。一类是对注入层进行直接分析;另一类是借助于对物理性能和器件参数的测量而间接地测......