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等离子体注入与沉积相关论文
高功率脉冲磁控溅射注入与沉积技术研究及CrN薄膜制备
等离子体浸没离子注入与沉积(PIII&D)是近年来迅速发展的一种材料表面改性技术,具有注入与沉积同时进行、粒子轰击能量高,非视线性以......
学位
等离子体注入与沉积
高功率脉冲磁控溅射
CrN薄膜
放电特性
均匀性
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