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精确模式SOCV相关论文
基于Innovus不同分析模式下时序收敛的研究
随着半导体工艺逐渐地从28nm向16nm甚至7nm过渡,片上偏差(on-chip variation)造成的时序不确定性导致同一芯片不同区域之间的流片......
学位
Innovus
片上偏差
AOCV
SOCV
精确模式SOCV
时序收敛
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