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膜厚阈值相关论文
非晶态TiO<,2>-Cr(V)薄膜的制备及光催化性能研究
二氧化钛半导体材料作为光催化的理想材料,得到了广泛的研究。这些研究都集中在对晶态TiO_2进行的一系列技术改性,极少有对非晶TiO......
学位
磁控溅射
非晶态TiO2-M(M为Cr或V)薄膜
光催化
膜厚阈值
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