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目前,SU-8胶层中过大的内应力,已经成为制约SU-8胶结构稳定性和实现更高深宽比的瓶颈问题之一.然而,已有的研究工作都集中在工艺参......
随着MEMS(微电子机械系统)技术的迅速发展,基于SU-8胶的UV-LIGA技术得到了广泛的应用。SU-8光刻胶已成为制作高深宽比结构的首选光......
利用超声时效技术减小聚合物SU-8光刻胶的内应力,讨论了其机理.以基片曲率法为基础,建立了轮廓法测量SU-8胶层内应力的计算模型.实......
高聚物SU-8光刻胶是一种基于EPON SU-8环氧树脂的负性、近紫外光刻胶。它具有优良的物理、机械以及抗化学腐蚀等性能,因此SU-8光刻......
