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电离辐射在MOS结构的SiO层中建立正陷阱电荷，这些正陷阱电荷在正栅偏压下迅速减少，这是由于正栅压引起硅衬底中的电子向SiO层洲主，从......
电离辐射在 MOS结构的 Si O2 层中建立正陷阱电荷 ,这些正陷阱电荷在正强栅偏压( + 2 0 V)下迅速减少 ,这是由于正栅压引起硅衬底......
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