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铜膜CMP相关论文
GLSI低压低磨料铜抛光液稳定性研究
随着极大规模集成电路(GLSI)工业规模的发展,特征尺寸已进入14nm以下,且制造工艺越来越复杂。化学机械平坦化(CMP)是GLSI制造关键工艺......
学位
铜膜CMP
低压低磨料
弱碱性
稳定性
表面活性剂
pH调节剂
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