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采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术在单晶硅表面双面沉积氮化硅/非晶硅叠层,并进行了退火处理,研究了衬底温度、氨气流量以......
本文对稳定非晶硅电池、非晶硅叠层电池及和电池沉积有关的各层材料进行了研究和优化。研究表明:优化p型窗口层条件,并在电池p/i界面......
采用等离子体增强化学气相沉积法生长的单层本征氢化非晶硅薄膜对单晶硅片进行钝化,结果表明增加氢稀释比有利于减少薄膜中的缺陷,......