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多弧离子镀弧源结构优化及控制系统开发
PVD(Physical Vapor Deposition)涂层技术是一种真正能够获得纳米级到微米级涂层且无污染的环保型表面处理方法和薄膜材料制备技术,......
学位
镀膜技术
离子源
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靶材冷却
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国内外磁控溅射靶材的研究进展
磁控溅射以溅射温度低、沉积速率高的特点而被广泛应用于各种薄膜制造中,如单层或复合薄膜、磁性或超导薄膜以及有一定用途的功能......
期刊
磁控溅射
靶材刻蚀
结构优化
计算机模拟
等离子体特性
靶材冷却
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