真空紫外光脱附/电离质谱成像(VUVDI-MSI)新装置

来源 :第三届全国质谱分析学术报告会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：greathuhao

【摘要】

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　　质谱成像广泛应用于材料，生物，药学等领域的研究.目前广泛使用的质谱成像方法为SIMS(二次离子质谱)、MALDI(基质辅助激光解吸电离质谱)和DESI(解吸电喷雾电离质谱)[1-3].SI

【作者】

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莫宇翔王佳刘峰张四纯王朝英张新荣

【机构】

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清华大学物理系原子分子纳米科学教育部重点实验室,北京 100084

【出处】

：

第三届全国质谱分析学术报告会

【发表日期】

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2017年期

【关键词】

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真空紫外光脱附激光解吸电离质谱质谱成像空间分辨率电喷雾电离质谱二次离子质谱 MALDI

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　　质谱成像广泛应用于材料，生物，药学等领域的研究.目前广泛使用的质谱成像方法为SIMS(二次离子质谱)、MALDI(基质辅助激光解吸电离质谱)和DESI(解吸电喷雾电离质谱)[1-3].SIMS 的空间分辨率可达亚微米，但仅能获得小质量的样品碎片成像信息(m/z＜500)；MALDI 可以得到大质量(高达105 Da)母体离子，但由于基质效应，该方法的空间分辨率仅能达到10 微米级别，难于实现微小尺寸样品(如单细胞)质谱成像.

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