【摘 要】
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本文通过电沉积方法制备Ni-W合金纳米晶,采用正交实验方法和极差分析设计实验和处理数据来研究钨酸钠浓度、电流密度、镀液pH值、温度等工艺参数对Ni-W合金沉积速率、显微硬
【机 构】
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合肥工业大学材料学院,合肥,230009
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本文通过电沉积方法制备Ni-W合金纳米晶,采用正交实验方法和极差分析设计实验和处理数据来研究钨酸钠浓度、电流密度、镀液pH值、温度等工艺参数对Ni-W合金沉积速率、显微硬度、镀层表面质量的综合影响.结果表明:通过控制钨酸钠浓度,可获得不同尺度的Ni-W合金纳米晶;随着电流密度增加,镀层的沉积速率和显微硬度提高;镀液的pH值对电沉积Ni-W合金的沉积速率和显微硬度以及镀层外观的影响最大,适宜的镀液为中性或微酸性镀液;从镀层沉积速率和表面质量等综合考虑,最佳沉积温度应控制在60～70℃.Ni-W合金纳米晶镀层具有良好的抗腐蚀性能,可与Cr镀层相当。
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