采用n-AlInGaN作为电子缓冲层中的量子垒的新型LED结构

来源 :第十三届全国LED产业发展与技术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhengj5817
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  为了减少发光量子阱区的缺陷,缓解量子阱区的应力,减小极化效应,提高量子阱结晶质量,降低效率衰减,提高发光效率,本文采用了n-AlInGaN作为CART中的垒的新型LED结构,实验数据表明,由于Si的掺杂,采用n-AlInGaN作为垒层没有造成正向工作电压的提高,原子力显微镜结果显示,用n-AlInGaN作为CART中的垒能有效的截止底层产生的刃型位错。由于极化作用的减小,发现器件的发光效率得到了提高,同时效率的衰减也明显减小;通过抗静电测试发现,该垒层同时还起到了电流扩展层的作用,有效的提高了器件的抗静电能力。
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