【摘 要】
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本文通过磁控溅射的方法，在高阻单晶硅(100)表面制备出的氧化锌薄膜。通过改变溅射功率制备的纳微阶层结构氧化锌薄膜最大接触角为158°，比平滑的氧化锌薄膜接触角109°有了较
【机 构】
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北京工业大学薄膜实验室，北京，100022
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本文通过磁控溅射的方法，在高阻单晶硅(100)表面制备出的氧化锌薄膜。通过改变溅射功率制备的纳微阶层结构氧化锌薄膜最大接触角为158°，比平滑的氧化锌薄膜接触角109°有了较大的提高。并且通过扫描电镜和X衍射仪对薄膜表面微观结构和结构性能分别进行了表征。通过调节不同溅射功率制备的超疏水氧化锌薄膜具有众多卓越性能将会有许多潜在的应用前景。
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