C形纳米小孔用于纳米光刻的数值模拟和实验研究

来源 :全国第17次光纤通信暨第18届集成光学学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:slhulala
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  金属薄膜中纳米尺度的脊型小孔因为其优异的近场特性可用于突破衍射极限的高精度光刻技术。本文对典型的脊型小孔(C形)进行了数值模拟和实验研究分析其在近场的光强分布,结果表明C形纳米小孔可在近场形成高强度、高对比度的亚波长尺度光斑,而且相比方形、矩形等常规形状小孔,C形小孔形成的光斑强度更高、对比度更好,更适用于纳米光刻技术。该研究有利于推进新型低成本、高精度光刻设备的发展。
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