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应用磁控溅射设备制备SiO2/TiO2双层减反射薄膜。当SiO2薄膜的制备参数不变时,研究了TiO2薄膜的制备参数对双层减反射薄膜反射率的影响。结果表明,在常温,靶基距为190nm,氧流量为15sccm,总气压为4×10-1Pa的条件下获得的TiO2薄膜与SiO2薄膜匹配制成的双层减反射薄膜减反射效果最佳。