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三价铬镀铬液中配体作用的探讨

来源 :2004年全国电子电镀学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：SANTACRUZ1

【摘 要】

：

本文从三价铬镀液的化学和电化学特性分析入手,介绍了镀液中添加的配体的作用:1)与三价铬离子形成活性配位离子加快电沉积速度.2)抑制r3+离子的羟桥化反应.3)可以掩蔽杂质金

【作 者】

：

黄清安 李国华 赖奂汶 

【机 构】

：

广州市万诺电子科技有限公司,510630

【出 处】

：

2004年全国电子电镀学术研讨会

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

三价铬镀铬液 三价铬离子 杂质金属 三价铬镀液 电沉积速度 特性分析 配位 金属离子 活性 电化学 镀层质量 电镀 掩蔽 性能 干扰 

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本文从三价铬镀液的化学和电化学特性分析入手,介绍了镀液中添加的配体的作用:1)与三价铬离子形成活性配位离子加快电沉积速度.2)抑制r3+离子的羟桥化反应.3)可以掩蔽杂质金属离子,减少杂质金属离对镀层质量的干扰,使之能持续进行电镀.4)可以稳定镀液.最后特别提出要选用能形成活性配位离子的配体,使之能持续进行电镀,获得性能良好的厚铬层.

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