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该文研究了陶瓷加工条件Al<,2>O<,3>/SiC纳米复相陶瓷抗弯强度、断裂韧性的影响。研究结果表明：试样的强度对抛光深度很敏感，未抛光时试样强度为550MPa，随着抛光深度的增加，强度迅速上升，达到85OMPa，抛光深度30μmc以后基本保特在850MPa附近不变。
Al<,2>O<,3>／SiC纳米复相陶瓷表面加工特性
【摘 要】
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该文研究了陶瓷加工条件AlO/SiC纳米复相陶瓷抗弯强度、断裂韧性的影响。研究结果表明：试样的强度对抛光深度很敏感，未抛光时试样强度为550MPa，随着抛光深度的增加，强度迅速上升，
【机 构】
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大学无机非金属材料研究所,浙江大学硅材料国家重点实验室
【出 处】
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第十届全国高技术陶瓷学术年会
【发表日期】
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1998年期
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