【摘 要】
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本实验采用直流磁控溅射法,使用合金靶制备了((Tb0.3Dy0.7)35Fe65薄膜.镀态的薄膜为非晶态.采用高温DSC,在Ar气保护下测量了非晶薄膜的晶化曲线.研究表明在400℃薄膜中没有晶
【机 构】
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天津理工学院材料系,天津,300191
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本实验采用直流磁控溅射法,使用合金靶制备了((Tb0.3Dy0.7)35Fe65薄膜.镀态的薄膜为非晶态.采用高温DSC,在Ar气保护下测量了非晶薄膜的晶化曲线.研究表明在400℃薄膜中没有晶化产生.在400℃薄膜发生了氧化.出现了氧化放热峰.在500℃左右薄膜中发生了晶化.将薄膜在不同温度进行了热处理.采用XRD研究了薄膜的结构.在400℃以下处理时薄膜的均为非晶态.在500℃以上处理的薄膜中出现了a-Fe相.
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